Ortoplus. Laboratorio de Ortodoncia
Logistik
Nötige Requisiten für die präzise Realisierung ihre ortodontischen Apparate:
| MODELOS | MORDIDA DE CERA | NOTAS | |
| FIXE APPARATOLOGIE (QH, KNOPF VON NANCE, ETC) | Superiore Modelle u/o inferiore Abdrücke in Stein-Gips. Mit angepassten Banden an gewünschten Teilen. | Nötig an Apparaten für Gewohnheiten. | Achtung mit der Einfügung der Banden am Alginate (Abdruckmasse). Ein Gegenmodell ist nötig in Fällen von Apparaten für Gewohnheiten. |
| KMOPF VON NANCE GIANELLI | Banden von 14 und 24 anpassen und eine Impression nehmen zu den gesetzen Banden. Abdruck in Gips. | Ist nicht nötig. | Sichergehen das der Abruck der Banden exakt übereinstimmt am Alginate. |
| ANKTIVIERER | Superiore und inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Konstruktiver Biss in gewünschter Kiefernerweiterung. Einen freien Raum von 3 zu 4 mm lassen. | Achtung mit Verschiebungen der mittleren Linie bei Kiefernverschiebung. Es wird Wachs von Moyco in Form eines Hufeisens empfohlen. |
| BIONATOR | Superiore und inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Der Biss aus Wachs muss genau die vertikale Dimension und die anteroposteriore Relation wiedergeben. | Achtung mit möglichen Verschiebungen der mittleren Linie in protrusiven Bissen und anterioren wie lateralen Freiraum um Akryl einsetzen zu können. |
| TEUSCHER | Superiore und inferiore Modelle Abdruck in Stein-Gips | Konstruktiver Biss der versucht Klasse II zu korrigieren. Es ist unumgänglich einem vertikalen Freiraum von 3 – 4 mm zu lassen. Ein min. von 6 in den Zonen der lateralen Sektoren. | Es wird Moyco Wachs empfohlen in Form eines Hufeisens. Achtung mit Verschiebungen der mittleren Linie bei der protrusion des Kiefers. |
| HERBST | Superiore und inferiore Modelle, abgedruckt in Stein-Gips mit Split-Cast. Superiores Modell aufgesetzt an einem Artikulator (optativ). | Konstruktiver Biss der den Kiefer erwitert. Einen posterioren Freiraum von min. 5mm freilassen. |
Es wird der SAM Artikulator empfohlen um die lateralen und protrusiven Bewegungen probieren zu können und für eine bessere Anpassung in der Klinik. |
| DISJUNTION NIT DIREKTEM ZEMENT | Superiore und inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Einen Freiraum von 3 mm lassen. | Es wird empfohlen mit "Excell" zu zementieren und dabei das Material an den lingualen und vestibularen Gesichtern anzubringen. |
| DISJUNTION VON BADEN UND HAAS | Superiores Modell abgedruckt in Stein-Gips mit den Banden angepasst an den Alginate. | Ist nicht nötig. | Achtung mit dem Einsetzen der Banden an die Impression. Diese müssen so exakt wie möglich angepasst werden. |
| SCHIENEN | Superiore Modelle aufgesetzt an einen Artikulator und der inferiore ohne Aufsatz. Das superiore Modell muss über eine Split-Cast aufgesetzt werden. | Biss in Wachs in R.C. | Es ist unumgänglich einen sehr präzisen Abdruck der Modelle zu machen und dabei nur harte Wachssorten zu benutzen. |
| RÜCKHALTER | Superiore u/o inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Ist nur nötig wenn die zentrische Okklusion (Mi) nicht ausreichend präzise ist. | Miteinbezug eines Gegenmodelles im Falle einer möglichen okklusalen Interferenz. |
| RÜCKHALTER MIT SET-UP | Superiore u/o inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Nötig in allen Fällen. |
Unumgängliches gegenmodell für die Kontrolle der Okklusion. |
| EXPANSION PLATTEN | Superiore u/o inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | Der Wachsbiss muss die exakte vertikale Dimension in Fällen von Üeberbissen wiedergeben. | Durch eine nötige präzision der aktiven Platten, sichergehen das der Abdruck genau ist. |
| PLATTEN FÜR GEWOHNHEITEN | Superiore und inferiore Modelle in Stein-Gips abgedruckt. | Unumgänglich um die Höhe des Gitters festzulegen. | |
| PLATTE VON PROGENIE | Superiore u/o inferiore Modelle abgedruckt in Stein-Gips. | In allen Fällen nötig. |
Muster des Gitters angeben. |
| STUDIENMODELLE | Ein Alginate (Abdrucksmasse) von hoher Qualität benutzen und dabei die exakten Proportionen von Pulver-Wasser einhalten. | Den Biss in Wachs (R.C) oder max. Intercuspidation. | Ein genauer Abdruck ist unumgänglich wo weiche Stellen, Frenulum(Bändchen), Fonds der Vestibularen, etc. Festgestellt werden. |
| POSITIONIERER | Zwei Teile von Abdrücken von Impressionen in Stein-Gips. Eines der superioren Modelle ist aufgesetzt auf einen SAM Artikulator. | Bis in R.C. Wachs mit minimst möglicher vertikaler Dimension. | Es wird empfohlen blauen Wachs von Delar zu benutzen. |
| REPARATIONEN: Einverständigungsregister der vorher genannten Normen sowie den zu reparierenden Apparat schicken. |
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